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上海依肯机械设备有限公司
主营产品:纳米乳化机,高速乳化机,高速分散机,德国胶体磨,粉液混合机,进口均质机,小型研磨机,湿法粉碎机,多功能剪切机,…
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  青蒿素纳米混悬液高速胶体磨  
产品名称: 青蒿素纳米混悬液高速胶体磨
产品编号: CMS2000
产品商标: 上海依肯IKN
产品规格: CMS胶体磨
参考价格: 面议
更新日期: 2026/1/20 16:40:43
被阅次数: 8637次
 
  详细说明  

技术方案为:

一种基于青蒿素类似物的纳米混悬液的制备方法,它包括如下步骤:

1)将蒿属植物粉料进行闪式提取,得到青蒿素类似物提取液,然后进行闪式蒸发浓缩,得青蒿素类似物(粗提物)浓缩液;

2)将所得青蒿素类似物浓缩液与吐温80混合,超声分散,加热搅拌并向其中加入水,搅拌稀释,得基于青蒿素类似物的纳米混悬液。

上海依肯胶体磨设备介绍:

混悬液中的微粒大小是不均匀的,大的微粒总是迅速沉降,细小微粒沉降速度很慢,细小微粒由于布朗运动,可长时间悬浮在介质中,使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时,应使混悬微粒有适当的分散度,粒度均匀,以减小微粒的沉降速度,使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨,转速只有3000rpm,生产出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,为此有医药厂家在考察了国内的设备之后,放弃了具有极度价格优势的国内设备,来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海依肯高速胶体磨

该设备转速达到14000RPM,这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍,研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍,这样研磨的细度更小,效果更好)混悬液胶体磨CMS2000三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。

 

上海依肯CMS2000系列锥体磨突破传统意义上的砂磨机,是技术上的进一步革新。**的粉碎效果源自硬质**的表面结构,三组分散刀头,表面含有不同粒度大小的金属颗粒,这保证了物料在通过各级刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计,增大了冷却表面积,更利于长时间工作。 产品说明:CMS2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨,可获得更细悬浮液,技术更创新。这是通过将锥形间的间隙调节至来完成的。间隙可进行无级调节。粉碎效果亦源于硬质的表面结构。**表面含高质材料,如:金属碳化物或不同粒径的陶瓷。因此**在强力剪切区域内被保护,防止损耗和撕破。在高粘度情况下,将锥形**适当调低同样可以进行加工。

 

CMS2000系列研磨分散机的特点:

① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

青蒿素纳米混悬液高速胶体磨技术参数

混悬液注射液胶体磨 

高速胶体磨

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMS 2000/4

700

14000

40

4

DN25/DN15

CMS 2000/5

5,000

10,500

40

11

DN40/DN32

CMS 2000/10

10,000

7,300

40

22

DN50/DN50

CMS 2000/20

30,000

4,900

40

45

DN80/DN65

CMS 2000/30

60,000

2,850

40

75

DN150/DN125

CMS 2000/50

100000

2,000

40

160

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到**允许量的10%。

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