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| 产品名称: 碳酸氢钠注射液高速均质胶体磨 |
| 产品编号: CMS2000 |
| 产品商标: 上海依肯IKN |
| 产品规格: CMS胶体磨 |
| 参考价格: 面议 |
| 更新日期: 2026/1/20 16:56:49 |
| 被阅次数: 8143次 |
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碳酸氢钠注射液的制备方法包括如下步骤:向调配罐内注入总配置量309^40%的注射用水,控制水温为2(T35°C,优选为2(T30°C,更优选为25~30°C ;充入C02气体至饱和;向注有注射用水的调配罐内投入碳酸氢钠,搅拌,使投入的碳酸氢钠充分溶解;使用10%的NaOH溶液调节pH值至7.40~8.50,优选为7.40~8.00,更优选为7.40~7.70 ;继续向调配罐内投入注射用水,至标准配定,此过程中液温应控制在2(T35°C ;搅拌分散药液充分至一段时间,使药液含量均匀;除菌过滤;灌装。 其中,除菌过滤采用两级过滤,第I级过滤器孔径为0.22 y m ;第2级过滤器孔径为0.22 ii m ;药液除菌过滤期间药液温度应保持在2(T35°C的范围内。
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上海依肯胶体磨设备介绍:
混悬液中的微粒大小是不均匀的,大的微粒总是迅速沉降,细小微粒沉降速度很慢,细小微粒由于布朗运动,可长时间悬浮在介质中,使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时,应使混悬微粒有适当的分散度,粒度均匀,以减小微粒的沉降速度,使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨,转速只有3000rpm,生产出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,为此有医药厂家在考察了国内的设备之后,放弃了具有极度价格优势的国内设备,来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海依肯高速胶体磨。
该设备转速达到14000RPM,这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍,研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍,这样研磨的细度更小,效果更好)混悬液胶体磨CMS2000三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。
碳酸氢钠注射液高速均质胶体磨技术参数
混悬液注射液胶体磨
| 高速胶体磨 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
| 类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
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| CMS 2000/4 |
700 |
14000 |
40 |
4 |
DN25/DN15 |
| CMS 2000/5 |
5,000 |
10,500 |
40 |
11 |
DN40/DN32 |
| CMS 2000/10 |
10,000 |
7,300 |
40 |
22 |
DN50/DN50 |
| CMS 2000/20 |
30,000 |
4,900 |
40 |
45 |
DN80/DN65 |
| CMS 2000/30 |
60,000 |
2,850 |
40 |
75 |
DN150/DN125 |
| CMS 2000/50 |
100000 |
2,000 |
40 |
160 |
DN200/DN150 |
| *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到**允许量的10%。 |
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