光学设备、实验室仪器等需要使用洁净干燥空气进行各种用途的吹扫。吹扫气体有可能把不需要的气态污染物引入光学镜片和硅片区域。这种污染物会吸收光，在镜片上留下淀积物或者淀积在进行工艺加工积聚)。对于使用洁净干燥空气作为镜片的吹扫气体所碰到的问题，本公司提供了完满的解决方案，洁净气体干燥纯化器针对半导体应用超高纯气体而设计的，采用脱烃、硫化物、卤中的硅片上，从而导致产品损失(很差的图形品质)和潜在的工艺设备损坏(污染物在镜片表面化物、残油、灰尘颗粒等杂质，从而得到洁净干燥气体。

技术参数：

原 料 气：空气、氢气、氧气、氮气、氩气、氨气、二氧化碳、一氧化碳等气体，露点≤－40℃。

净化后质量指标：经脱水干燥、露点≤-70℃～-90℃，或根据用户具体情况而定，经后级净化，可脱除空气中硫化物、卤化物、碳氢等等杂质，使空气达到洁净要求。

操 作 压 力：输入≥ 0.8MPa( 压力愈高愈好 ) ，输出压力略低于输入压力

处 理 气 量：1—1000Nm 3 /h

适应范围：实验室气体分析、载气、标准气/混合气配气、半导体材料生产、有色金属加工、精细化工。