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上海依肯机械设备有限公司
主营产品:纳米乳化机,纳米分散机,纳米均质机,真空乳化机,高速胶体磨,高速粉碎机,高速研磨机,进口研磨分散机,粉液混合机…
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  实验室专用高速纳米研磨机  
产品名称: 实验室专用高速纳米研磨机
产品编号: CMSD2000-4
产品商标:
产品规格: 1-1-1
参考价格: 面议
更新日期: 2026/2/3 10:46:48
被阅次数: 5205次
 
  详细说明  

实验室高速纳米研磨机,小型实验室研磨机,科研用纳米研磨机,多功能研磨机,高效研磨机,小体积可控温研磨机,变频调速科研研磨机


采用研磨机制备细微化混悬液/助剂/药液等,需要研究不同的研磨工艺参数对颗粒粒径或分散液稳定性的影响。实验室在进行基础性研究工作时,需要有一套适合实验室使用的设备进行理论或规律研究。然而,采用大型设备或小型砂磨机都不适合研究工作,有诸多弊端,比如购置设备的成本高,通用性差,浪费材料,从而限制了对各种参数的规律探索。


依肯的研磨设备在转速和剪切速度上远高出同lei研磨机4-5倍,作用效果更加显zhu;设备材质上采用316L环保合金材质,符合食品医药卫生GMP机FDA生产要求;内部suo有配件均耐得住设备的高运转,使用寿命长久;采用变频调速,可灵活应用于研究制备新产品及放大生产;依肯设备可以保证小试实验的结果在同等参数、环境下放大到中试及工业化中的效果是一样的,只需线性放大物料参数即可。


 

(小型实验室研发制研磨机 电机处用防护罩加盖,以防灰尘及其他物品掉入电机,影响设备使用及保障制药卫生;机身采用316L环保合金,设备可通液体介质(水、油、液相介质等)加热或冷却;高经度的设备内表面光洁度,保障制药卫生,适用于GMP车间,复合FDA要求。)

 

(中试型真空剪切哑膜机,适用于中试生产,无jun,无残留,内置高速刮边搅拌机,可采用间歇式/连续式生产方式,生产过程中温度可控,设备效率快,效果好,灵活性高,可根据需求改装成胶体磨、乳化机、分散机、混合机等)



实验室高速纳米研磨机由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,同时,可将电机能量更有效地转化为尺寸减小力,从而在粉末研磨和精细化学粉碎方面ling先于其他同行业设备。被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

 

IKN研磨分散机可在制药,食品和精细化工行业中实现均匀的粒度分布和解聚集分散,帮助能够减少或规避资本支出,同时提供改进的成品。IKN研磨分散机采用了二级处理结构,第yi级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块,第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块。第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF,(2P剪切力zui弱,为粗齿,8SF剪切力zui强,为超细齿)且定转子经密度都达到了guo际领xian水平。IKN研磨分散机已通过数千种应用进行了改进,可提供可靠的可扩展性,可重复性和性能。我们zui新的设计融合了许多创新,提供更多应用多功能性,更易于清洁和维护。

球磨机/砂磨机:锆珠易损,引入杂质,更换维修成本高;

国内胶体磨/研磨机/分散机:转速普遍2930rpm,不超过3000rpm,作用力弱,粉碎研磨细度不够,浆料稳定性差;

德国IKN研磨分散机(改进型胶体磨/改进型分散机):转速范围9000rpm-14000rpm-21000rpm,剪切力,研磨力,分散力更强,粒径更小,分布范围更窄,浆料稳定性更好。产生均匀的尺寸减小率并产生窄的,一致的和可重复的粒度分布。


CMSD 2000系列分散均质型研磨机设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm


线速度

m/s


功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD 2000/4

300

14000


41


4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500


41


11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200


41


22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900


41


45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850


41


90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100


41


160

DN200/DN150

 

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%



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